日本東洋鋁公司成功地開發(fā)出一種新型的AlN粉末，它比原來的產品燒結性更好，成形體的熱傳導率等特性都有提高。最近在東京召開的“國際陶瓷綜合展會”上開始銷售這種新產品。在該公司的日野工廠（滋賀縣蒲生郡）年產40噸的設備已投產，視需求情況也可在年內增強生產能力，追趕世界居首位的德山公司。

　　AlN的導熱度比氧化鋁高10倍，熱膨脹率近似半導體硅，由于它的這些特性，使它作為大功率晶體管、高密度IC的基板材料，從上世紀80年代中期就引人注目，可是因其成本和可靠性等問題，需求怎么也沒有增加。但最近不僅半導體基板而且在半導體制造裝置用零件等方面需求擴大了。

　　該公司的AlN粉是以本公司生產的高純度的噴霧AlN粉為原料用直接氮化法制造的。比氧化鋁的碳還原氮化法量產性好，但雜質、粒度等質量方面較差。為此，通過改進方法，可以控制氧等雜質和粒度。