朱俊,男,博士、教授,博士生導師,1966年1月生,籍貫江蘇省。在南京大學物理系完成本科、碩士和博士的學習,1995年至1996年在德國亞堔工業(yè)大學(RWTH-Aachen)做訪問學者進行合作研究。2004年4月到成都電子科技大學微電子與固體電子學院從事教學、科研工作至今。
在科研工作上,主要從事電子功能薄膜材料制備以及結構與性能相關性的研究。負責或參加了國家重大基礎研究“973”項目(兩項)、國家自然科學基金重點項目(一項)和國家自然科學基金面上項目(三項)、總裝預研重點項目(一項)、國家重點研發(fā)計劃課題(一項)以及其他國家級研究項目多項。對Si基柵介質Hf系氧化物高介電薄膜進行了創(chuàng)新的研究;對BST、PZT、LN等介電、鐵電薄膜以及BFO、CFO等磁電薄膜的生長制備及結構與性能相關性的物理機理進行了系統(tǒng)的探索性研究;在氧化物功能薄膜與寬禁帶半導體GaN的集成生長與耦合性能做了大量原創(chuàng)性的研究。迄今已在國外核心雜志(SCI)上,如:Applied physics letter, J. Applied physics , Applied Physics A,J. Phys. D: Appl. Phys, Journal of Crystal Growth, Thin Solid Films等發(fā)表140多篇論文;并獲中國發(fā)明專利12項。在國際、國內學術會議上做邀請或口頭報告20多次。目前研究興趣在介電、鐵電、鐵磁和半導體等薄膜及異質復合結構的制備、新性能的研究,以及探索多功能復合新器件的應用。 |